Ik. Hobbyist/educatieve lithografie (bijv. fotolaketsen op PCB's):

* Masker: Een transparant materiaal (glas, plastic) met een ondoorzichtig patroon dat de te etsen gebieden definieert. Kan worden gemaakt met laserprinters en transparanten of kan kant-en-klaar worden gekocht.

* Fotoresist: Een lichtgevoelig polymeer dat zijn eigenschappen (oplosbaarheid) verandert bij blootstelling aan UV-licht. Positieve fotoresist lost op in ontwikkelaar *na* UV-blootstelling; negatieve fotoresist lost op *vóór* UV-blootstelling.

* UV-lichtbron: Een UV-lamp of een eenvoudig UV-belichtingsapparaat (vaak een doosje met een UV-lamp). De intensiteit en de belichtingstijd zijn cruciaal.

* Substraat: Het materiaal dat u aan het etsen bent (bijvoorbeeld een PCB, een siliciumwafel). Dit zal grondig gereinigd moeten worden.

* Ontwikkelaar: Een chemische oplossing die, afhankelijk van het type, de belichte of onbelichte fotoresist verwijdert.

* Etsen: Een chemische oplossing die de blootgestelde delen van het substraat etst (bijvoorbeeld ijzerchloride voor koper, KOH voor silicium).

* Schoonmaakbenodigdheden: Aceton, isopropylalcohol (IPA), enz., voor het reinigen van het substraat en het verwijderen van achtergebleven fotoresist.

* Handschoenen en veiligheidsbril: Essentieel bij de omgang met chemicaliën.

* Hete plaat (optioneel): Voor een betere hechting van fotoresist of snellere ontwikkeling.

II. Professionele/industriële lithografie (bijv. productie van halfgeleiders):

De apparatuur hier is veel complexer en duurder, waarbij cleanroomomgevingen en zeer gespecialiseerde machines betrokken zijn:

* Fotomasker: Extreem nauwkeurige en dure maskers gemaakt met behulp van geavanceerde technieken.

* Stepper/scanner: Een zeer geavanceerde machine die het patroon van het fotomasker met extreem hoge precisie op de wafer projecteert. Dit is de kern van het lithografische proces bij de productie van halfgeleiders. Deze machines zijn ongelooflijk groot en complex en kosten tientallen miljoenen dollars.

* Belichtingssysteem: Levert de UV- (of andere) lichtbron voor de stepper/scanner. Vaak gaat het om zeer gespecialiseerde lasers en optische systemen.

* Wafer-handlingsystemen: Robots en geautomatiseerde systemen voor het verplaatsen en hanteren van wafers door de verschillende verwerkingsstappen.

* Uitlijningssysteem: Zorgt voor een nauwkeurige uitlijning van het maskerpatroon met eerder patroonlagen op de wafer (cruciaal voor meerlaagse structuren).

* Systemen coaten/ontwikkelen/inspecteren: Geautomatiseerde systemen voor het aanbrengen van fotoresist, het ontwikkelen ervan en het inspecteren van de resultaten.

* Etssysteem: Uiterst gecontroleerde systemen voor het etsen van de blootgestelde delen van de wafer. Dit kan plasma-etsen of natchemisch etsen zijn.

* Cleanroom-omgeving: Een sterk gecontroleerde omgeving om besmetting van de wafers te voorkomen.

* Metrologische apparatuur: Geavanceerde apparatuur voor het meten en karakteriseren van de kenmerken die op de wafer zijn gecreëerd.

* Gegevensopslag- en verwerkingssysteem: Enorme computersystemen voor het besturen van de apparatuur en het opslaan en verwerken van de enorme hoeveelheden gegenereerde gegevens.

Kortom, de apparatuur die nodig is voor lithografie varieert van eenvoudige en goedkope gereedschappen voor hobbyisten tot uiterst geavanceerde en kostbare machines voor de productie van halfgeleiders in grote volumes. De specifieke eisen zijn geheel afhankelijk van de toepassing en het gewenste nauwkeurigheidsniveau.