Plasma elektroden
vrijgeven elektrische stroom door een stof die geen elektriciteit geleiden . Lucht isoleert . Het doet geen onderzoek naar elektriciteit , maar een paar duizend volt elektrische veld doorgegeven via normaal isolerende lucht , zorgt voor stikstof , zuurstof en andere gasvormige ionen . Het plasma zorgt elektrode negatief geladen elektronen af te breken stikstof of zuurstofatomen en laat de positief geladen ionen . De ionen en elektronen ( plasma ) bewegen afzonderlijk door de hoge spanning creëren van een elektrische stroom . Plasma elektrische stroom geleidt .
Vaccuum Arc Plasma Elektroden

Vacuum arc elektrische ontladingen
gebruiken plasmacoatings in de metallurgie en als plasma- films . Het vacuüm bogen zijn van gepaarde hoogspanningselektroden in een vacuümkamer . De elektrische boog draagt ​​het geïoniseerd plasma en regisseert de magnetische boog voor het coaten van een microchip oppervlak . De boog kan worden gericht met een magnetisch veld . Coating microchips met een geladen plasma arc is een proces genaamd " vacuum arc depositie . " Vloeibaar metaal druppels spray uit de elektroden oppervlak , die afbreuk doen aan de kwaliteit van de dunne plasma coating. De inconsistente druppels van de plasmastraal verwijderd door het belemmeren van de stroming van het plasma tussen de elektrode en het halfgeleider oppervlak . Dit proces heet " gefilterd vacuum arc depositie . "
Corona en Glow Discharge Elektroden

Corona elektrische ontlading
is een gedeeltelijke inhomogene elektrische ontlading . Corona elektrische ontlading wordt gecreëerd door een hoog voltage elektrisch veld in de buurt van een scherpe elektrode . Corona is een lage stroom , hoog voltage ontlading . Glimontladingen zijn enkele honderden volts en 1 ampère . De lage geïoniseerde stroom wordt versterkt in botsing met andere deeltjes . De versterking creëert secundaire elektronen . Elektrische ontladingen zijn ook gemaakt door microgolf of laser golven met of zonder elektroden .
Capacitief gekoppeld plasma ( CCP ) Elektroden

Een capacitief gekoppeld plasma ( CCP ) elektrode is eigenlijk twee plasma- elektroden met weinig afstand tussen hen in een reactor . Druk van gas in de reactor lager dan de druk van de atmosfeer . Een ctp elektrode stuurt radiogolven , meestal op 13,56 MHz . Een plasma elektrode is bevestigd aan de elektrische energie , en de andere is de aardelektrode . De CCP elektroden zijn parallel verbonden , en plasma aldus gevormde capacitief gekoppeld plasma. Capacitief gekoppeld plasma produceert soms licht, terwijl het genereren van plasma met een condensator . Elektronen bombarderen een elektrode snel negatief geladen en creëren ze secundaire plasmastroom naast de wisselstroom . Een gelijkstroom elektrode prikkelt elektronen en ionen kosten . Dit microproces deponeert een dunne plasma- film op een elektrode . Halfgeleiders van ctp kan worden geëtst .